源发射器

显示当前项目名称。要更改它，请单击该字段，然后输入新名称。

打开或关闭从发射器产生的粒子。禁用发射器时，其设置不会产生任何结果。

允许您定义特定的源目标项目。源通常是另一个粒子模拟项，其中粒子的位置会在新模拟中生成粒子。它也可以是静态粒子对象（例如粒子云），也可以简单地是“网格项”，其中几何图形的顶点充当发射源。

生成随机发射值时使用的初始数字。每个种子产生不同的随机结果。当场景中有多个具有相同设置和源的发射器时，您需要更改此设置。

控制粒子的发射方式。提供以下选项：

• Fixed Total Rate：对所有源使用单一的综合排放率。

• Fixed Average Rate：对源粒子单独使用单个发射率。

• Per Particle Rate：从中读取粒子的创建Rate粒子特征。

• Pulse：出现以下情况时，每个源粒子都会发射一个粒子Pulse由关键帧或触发器启用。

控制每秒发射的粒子数。

启用后，指定源项目中的所有曲线都将作为样条线或贝塞尔曲线的发射源。禁用后，您可以在图层内指定一条曲线，以使用Curve Index值。

允许您根据一个图层的索引值指定一个包含多个曲线元素（样条曲线或贝塞尔曲线）的图层中的特定曲线，该数字元素是按照最初在图层中绘制曲线的顺序生成的数字赋值。

允许您沿曲线长度修改粒子的发射强度。使用最小梯度输入，可使用梯度键修改发射，该梯度键表示在沿曲线的任何位置产生粒子的统计可能性。就像关键帧如何在时间上定义值一样，这些关键点代表沿长度的值，允许发射强度发生变化。渐变色输入的宽度代表单个曲线发射器的总长度，底部在左侧。您可以通过沿渐变输入的长度单击，然后单击并向上或向下拖动并拖动键图标来调整值来添加键。正下方的灰度条提供了有关值如何从一个键渐变到下一个键的视觉反馈，黑色不产生粒子发射，白色产生100％发射强度，灰色阴影减弱了它们之间的强度。

当。。。的时候Emit Mode设置为Pulse选项，通过触发器或关键帧启用此切换会导致发射器发射粒子。

确定粒子在出生时的移动速度。粒子保持相同的速度，直到受到力或碰撞的影响。重力和阻力是粒子模拟项可以自动生成的两个力。