使用雕刻面具
您可以在Modo将雕刻限于表面的特定区域。认为面具是雕刻的盾牌。您可以使用与其他工具相同的基于画笔的工具来定义这些区域Modo绘画和雕刻功能。当使用遮罩工具在表面上刷涂时,被遮罩的区域将变为亮红色,以表示其遮罩状态。在擦除或清除蒙版之前,您无法雕刻这些区域。遮罩不仅可以打开或关闭,还可以在整个表面上淡化,从而在遮罩和雕刻区域之间具有柔和的边界。Modo提供特定的工具来控制创建蒙版时蒙版的软边缘或硬边缘。
用法
您可以使用蒙版画笔在蒙版中应用蒙版Sculpt Tools工具箱中的子标签Paint和Sculpt接口。Modo仅支持多分辨率雕刻的遮罩。因此,网格必须处于Catmull Clark细分模式,并具有Multiresolution选项已启用。有关如何设置多分辨率网格进行雕刻的更多信息,请参见多分辨率雕刻。您可以在雕刻时或雕刻之前随时应用遮罩,以使某些区域完全不受影响。您可以遮盖雕刻区域,以使其免受例如添加高频表面细节的影响。
要创建遮罩,请在工具箱中找到遮罩工具图标。点击Mask Paint工具来激活它。右键单击并拖动直接在3D视口中设置笔刷大小。然后在目标表面上拖动以创建遮罩,该遮罩在表面上显示为亮红色。红色临时覆盖应用到表面的任何纹理,但是在移除蒙版时该纹理会返回。如果您使用数位板和手写笔涂抹面罩,面罩工具也会对压力敏感度产生响应。创建蒙版后,按spacebar停用当前工具。现在,您可以选择任何雕刻工具并将其应用到目标表面。除非您修改,禁用或清除蒙版本身,否则蒙版区域不会受到雕刻的影响。要清除面罩,请单击Clear Mask工具箱下的按钮。 您还可以临时禁用,反转或调整蒙版的不透明度。 通过单击右上角的齿轮图标来调整视口选项,可以控制每个视口的蒙版的整体可见性。要显示或隐藏蒙版,请选择或清除Psub Mask复选框Active Mesh子标签。
雕刻口罩既方便又易于使用,但是您应该知道一些细节。Modo通过目标表面的细分级别确定蒙版的分辨率。也, Modo不会与网格一起保存雕刻蒙版。任何时候都只能使用一个遮罩,您不能单独保存遮罩。要创建可以保存的蒙版,请使用衰减。(雕刻工具也坚持使用衰减。)您也不能直接保存衰减,但是Modo从可以保存的源中导出基于顶点贴图或图像的衰减。
面膜:油漆
“遮罩绘画”工具可向目标表面添加遮罩。Modo确定如何通过笔刷尖端添加蒙版。您可以将Mask Paint工具与定制墨水和平板电脑喷嘴自定义笔触。启用“蒙版绘画”工具时,可以右键单击并在3D视口中拖动以设置画笔的大小。在目标表面上拖动会在每个笔划中将蒙版添加到表面上。紧迫Ctrl同时在表面上拖动会使画笔的效果像橡皮擦一样。
Value:确定所用面罩的强度。如果您使用压敏笔和数位板,则此选项指定最大强度。
面膜:光滑
“蒙版平滑”工具可软化或模糊现有的蒙版。Modo根据笔尖模糊蒙版。您也可以将此工具与定制墨水和平板电脑喷嘴用于自定义笔触的选项。工具处于活动状态时,您可以右键单击并在3D视口中拖动以设置笔刷的大小。在目标表面上拖动将使蒙版变软,每增加一个笔划,蒙版就会变得更软。
Smooth Amount:确定蒙版上模糊效果的强度。
遮罩:按比例缩小
“蒙版缩小”工具会降低目标蒙版的强度。怎么样Modo遮罩的缩放比例由笔尖决定。您也可以将此工具与定制墨水和平板电脑喷嘴用于自定义笔触的选项。工具处于活动状态时,您可以右键单击并在3D视口中拖动以设置笔刷的大小。在目标表面上拖动会降低蒙版的强度,每增加一个笔划,蒙版的强度就会减弱。紧迫Ctrl同时在表面上抚摸会反转笔刷的效果,以增强(或增加)蒙版的效果。
Scale Amount:确定对值进行缩放的速度,以调整缩放效果的整体强度。
遮罩:擦除
遮罩擦除工具可以完全消除目标表面的遮罩。工具处于活动状态时,您可以右键单击并在3D视口中拖动以设置笔刷的大小。在目标表面上拖动会从表面擦除蒙版。紧迫Ctrl同时在表面上抚摸时,会反转笔刷的效果,使其类似于“蒙版设置值”工具。(“蒙版擦除”工具没有选项面板。)
掩码:设置值
掩码设置值工具将定义的值应用于掩码,以覆盖所有现有值。该工具可创建硬边的笔触。您可以将“遮罩设置值”工具与平板电脑喷嘴自定义笔触的选项。工具处于活动状态时,您可以右键单击并在3D视口中拖动以设置笔刷的大小。在目标表面上拖动将蒙版值应用于目标表面。紧迫Ctrl同时在表面上抚摸时,将删除蒙版值,其作用类似于“蒙版擦除”工具。
Value:确定应用于表面的蒙版的强度。
遮罩控件
在雕刻工具箱中的遮罩工具正下方, Modo提供了与雕刻面具有关的几个选项。
Enable Mask:通过清除此复选框,您可以暂时禁用掩码,而不必清除或删除掩码。然后,您可以在以后的同一次雕刻过程中使用蒙版。(Modo不会与模型或场景一起保存遮罩。)选中后,遮罩将处于活动状态。清除后,该遮罩处于不活动状态,但仍可见。
Invert Mask:启用时,反转蒙版的效果(但不反转其视口表示)。
Mask Opacity:确定3D视口中可见表示的强度。这不会影响面罩强度本身,而只会改变Modo显示它。
Clear Mask:快速从表面清除遮罩。单击此按钮可以从曲面上完全删除所有遮罩值。
Bake Falloff:将任何有效衰减转换为雕刻蒙版。激活任何衰减后,单击Bake Falloff打开Bake Falloff对话。
Bake To:选择其中一个Mask将当前衰减合并到当前雕刻蒙版中,或Displacement使用衰减作为移动(偏移)当前曲面的一种手段。
Displacement Offset:控制最大位移量100%设置时的衰减Bake To至Displacement。