使用雕刻面具

Sample

您可以在Modo将雕刻限于表面的特定区域。认为面具是雕刻的盾牌。您可以使用与其他工具相同的基于画笔的工具来定义这些区域Modo绘画和雕刻功能。当使用遮罩工具在表面上刷涂时,被遮罩的区域将变为亮红色,以表示其遮罩状态。在擦除或清除蒙版之前,您无法雕刻这些区域。遮罩不仅可以打开或关闭,还可以在整个表面上淡化,从而在遮罩和雕刻区域之间具有柔和的边界。Modo提供特定的工具来控制创建蒙版时蒙版的软边缘或硬边缘。

用法

您可以使用蒙版画笔在蒙版中应用蒙版Sculpt Tools工具箱中的子标签PaintSculpt接口Modo仅支持多分辨率雕刻的遮罩。因此,网格必须处于Catmull Clark细分模式,并具有Multiresolution选项已启用。有关如何设置多分辨率网格进行雕刻的更多信息,请参见多分辨率雕刻。您可以在雕刻时或雕刻之前随时应用遮罩,以使某些区域完全不受影响。您可以遮盖雕刻区域,以使其免受例如添加高频表面细节的影响。

要创建遮罩,请在工具箱中找到遮罩工具图标。点击Mask Paint工具来激活它。右键单击并拖动直接在3D视口中设置笔刷大小。然后在目标表面上拖动以创建遮罩,该遮罩在表面上显示为亮红色。红色临时覆盖应用到表面的任何纹理,但是在移除蒙版时该纹理会返回。如果您使用数位板和手写笔涂抹面罩,面罩工具也会对压力敏感度产生响应。创建蒙版后,按spacebar停用当前工具。现在,您可以选择任何雕刻工具并将其应用到目标表面。除非您修改,禁用或清除蒙版本身,否则蒙版区域不会受到雕刻的影响。要清除面罩,请单击Clear Mask工具箱下的按钮。 您还可以临时禁用,反转或调整蒙版的不透明度。 通过单击右上角的齿轮图标来调整视口选项,可以控制每个视口的蒙版的整体可见性。要显示或隐藏蒙版,请选择或清除Psub Mask复选框Active Mesh子标签。

雕刻口罩既方便又易于使用,但是您应该知道一些细节。Modo通过目标表面的细分级别确定蒙版的分辨率。也, Modo不会与网格一起保存雕刻蒙版。任何时候都只能使用一个遮罩,您不能单独保存遮罩。要创建可以保存的蒙版,请使用衰减。(雕刻工具也坚持使用衰减。)您也不能直接保存衰减,但是Modo从可以保存的源中导出基于顶点贴图或图像的衰减。

面膜:油漆

Paint Sample

“遮罩绘画”工具可向目标表面添加遮罩。Modo确定如何通过笔刷尖端添加蒙版。您可以将Mask Paint工具与定制墨水平板电脑喷嘴自定义笔触。启用“蒙版绘画”工具时,可以右键单击并在3D视口中拖动以设置画笔的大小。在目标表面上拖动会在每个笔划中将蒙版添加到表面上。紧迫Ctrl同时在表面上拖动会使画笔的效果像橡皮擦一样。

Panel

Value:确定所用面罩的强度。如果您使用压敏笔和数位板,则此选项指定最大强度。

面膜:光滑

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“蒙版平滑”工具可软化或模糊现有的蒙版。Modo根据笔尖模糊蒙版。您也可以将此工具与定制墨水平板电脑喷嘴用于自定义笔触的选项。工具处于活动状态时,您可以右键单击并在3D视口中拖动以设置笔刷的大小。在目标表面上拖动将使蒙版变软,每增加一个笔划,蒙版就会变得更软。

Panel

Smooth Amount:确定蒙版上模糊效果的强度。

遮罩:按比例缩小

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“蒙版缩小”工具会降低目标蒙版的强度。怎么样Modo遮罩的缩放比例由笔尖决定。您也可以将此工具与定制墨水平板电脑喷嘴用于自定义笔触的选项。工具处于活动状态时,您可以右键单击并在3D视口中拖动以设置笔刷的大小。在目标表面上拖动会降低蒙版的强度,每增加一个笔划,蒙版的强度就会减弱。紧迫Ctrl同时在表面上抚摸会反转笔刷的效果,以增强(或增加)蒙版的效果。

Panel

Scale Amount:确定对值进行缩放的速度,以调整缩放效果的整体强度。

遮罩:擦除

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遮罩擦除工具可以完全消除目标表面的遮罩。工具处于活动状态时,您可以右键单击并在3D视口中拖动以设置笔刷的大小。在目标表面上拖动会从表面擦除蒙版。紧迫Ctrl同时在表面上抚摸时,会反转笔刷的效果,使其类似于“蒙版设置值”工具。(“蒙版擦除”工具没有选项面板。)

掩码:设置值

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掩码设置值工具将定义的值应用于掩码,以覆盖所有现有值。该工具可创建硬边的笔触。您可以将“遮罩设置值”工具与平板电脑喷嘴自定义笔触的选项。工具处于活动状态时,您可以右键单击并在3D视口中拖动以设置笔刷的大小。在目标表面上拖动将蒙版值应用于目标表面。紧迫Ctrl同时在表面上抚摸时,将删除蒙版值,其作用类似于“蒙版擦除”工具。

Panel

Value:确定应用于表面的蒙版的强度。

遮罩控件

在雕刻工具箱中的遮罩工具正下方, Modo提供了与雕刻面具有关的几个选项。

Masking Controls

Enable Mask:通过清除此复选框,您可以暂时禁用掩码,而不必清除或删除掩码。然后,您可以在以后的同一次雕刻过程中使用蒙版。(Modo不会与模型或场景一起保存遮罩。)选中后,遮罩将处于活动状态。清除后,该遮罩处于不活动状态,但仍可见。

Invert Mask:启用时,反转蒙版的效果(但不反转其视口表示)。

Mask Opacity:确定3D视口中可见表示的强度。这不会影响面罩强度本身,而只会改变Modo显示它。

Clear Mask:快速从表面清除遮罩。单击此按钮可以从曲面上完全删除所有遮罩值。

Bake Falloff:将任何有效衰减转换为雕刻蒙版。激活任何衰减后,单击Bake Falloff打开Bake Falloff对话。

对话

Bake To:选择其中一个Mask将当前衰减合并到当前雕刻蒙版中,或Displacement使用衰减作为移动(偏移)当前曲面的一种手段。

Displacement Offset:控制最大位移量100%设置时的衰减Bake ToDisplacement