粒子画移动
粒子工具(“平滑”,“涂抹”,“移动”,“捏”,“切线捏”,“旋转”和“展平”)可修改点云中的粒子位置。就像雕刻工具可以塑造曲面一样,粒子工具甚至可以单独控制,定位和引导粒子,以产生所需的结果。粒子可以是任意数量的东西:具有单点顶点的网格层或单点多边形(也称为点云)的集合。有几种创建点云的方法,但是最直接的方法是使用粒子绘画工具。
注意: 您无法使用粒子工具修改程序生成的粒子,例如粒子云或一个粒子发生器。
使用工具
粒子工具位于Paint界面标签下的Particle Tools工具箱的子标签。选择工具后,其属性将显示在Properties视口。首次选择该工具时,它具有Smooth Brush作为默认画笔笔尖。您可以在继续操作之前选择替代的笔刷笔尖,或在3D视口中单击鼠标右键以缩放笔刷大小。在视口中拖动以影响粒子。“移动”工具将粒子拖动到画笔移动的距离处。的Move Amount确定受影响的粒子数量。紧迫Ctrl通过沿指针的相反方向移动粒子来消除工具的效果。
Particle Move
粒子移动 |
|
---|---|
Move Amount |
控制画笔在移动粒子中的影响强度。值100%将粒子移动与指针移动相同的距离;的值为0%,粒子根本不会移动。 |
Brush Constraint |
当您从2D视口绘制到一定体积的粒子中时,控制该笔刷影响体积中的哪个区域。(您只能在屏幕的平面2D空间中查看3D元素。) • Closest Particle -影响最靠近视口摄像机(最靠近您)的粒子。 • Grid -影响最接近“工作平面”网格的粒子。 • Center Particle -影响最靠近笔刷下体积中心的粒子。 |
Particle Constraint |
启用后,将每个顶点限制在任何前景多边形上,以确保该顶点始终位于多边形表面上动作。的工作方式与Constrain to Background -点模式,但这不取决于背景几何形状。 小费: 当使用Particle Constraint选项,约束几何不必与点云在同一层。你可以按Ctrl当您选择其他项目图层以将其带入前台时。编辑的粒子与前景多边形的表面一致,但保留在其初始层内。 |
Screen Brush |
启用后,展平粒子体积,以使整个体积中的所有粒子都受笔刷的影响,无论它们之间的距离有多近或远。禁用后,笔刷尖端在3D空间中的体积为固定大小,并且仅影响该体积内的粒子(由Brush Constraint选项)。即使刷子越过了体积较远的粒子,也不会受到影响。 |