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粒子工具（“平滑”，“涂抹”，“移动”，“捏”，“切线捏”，“旋转”和“展平”）可修改点云中的粒子位置。就像雕刻工具可以塑造曲面一样，粒子工具甚至可以单独控制，定位和引导粒子，以产生所需的结果。粒子可以是任意数量的东西：具有单点顶点的网格层或单点多边形（也称为点云）的集合。有几种创建点云的方法，但是最直接的方法是使用粒子绘画工具。
注意： 您无法使用粒子工具修改程序生成的粒子，例如粒子云或一个粒子发生器。
使用工具
粒子工具位于Paint界面标签下的Particle Tools工具箱的子标签。选择工具后，其属性将显示在Properties视口。首次选择该工具时，它具有Smooth Brush作为默认画笔笔尖。您可以在继续操作之前选择替代的笔刷笔尖，或在3D视口中单击鼠标右键以缩放笔刷大小。在视口中拖动以影响粒子。捏工具将粒子聚集到笔刷的中心。的Pinch Amount确定它们移动的速度。紧迫Ctrl通过向外传播粒子（远离笔刷中心）来消除工具的效果。
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颗粒：捏 |
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Pinch Amount |
控制收缩的强度，即受影响的粒子向内或向外移动的速度。 |
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Brush Constraint |
当您从2D视口绘制到一定体积的粒子中时，控制该笔刷影响体积中的哪个区域。（您只能在屏幕的平面2D空间中查看3D元素。） • Closest Particle -影响最靠近视口摄像机（最靠近您）的粒子。 • Grid -影响最接近“工作平面”网格的粒子。 • Center Particle -影响最靠近笔刷下体积中心的粒子。 |
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Particle Constraint |
启用后，将每个顶点限制在任何前景多边形上，以确保该顶点始终位于多边形表面上动作。的工作方式与Constrain to Background -点模式，但这不取决于背景几何形状。 小费： 当使用Particle Constraint选项，约束几何不必与点云在同一层。你可以按Ctrl当您选择其他项目图层以将其带入前台时。编辑的粒子与前景多边形的表面一致，但保留在其初始层内。 |
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Screen Brush |
启用后，展平粒子体积，以使整个体积中的所有粒子都受笔刷的影响，无论它们之间的距离有多近或远。禁用后，笔刷尖端在3D空间中的体积为固定大小，并且仅影响该体积内的粒子（由Brush Constraint选项）。即使刷子越过了体积较远的粒子，也不会受到影响。 |